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- 日期: 2011-02-06
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什么是阻抗?
阻抗设计时注意点:
阻抗控制产品的过程控制:
1、确定好阻抗线的模式
2、先外层后内层
3、先根据线宽确定介质层厚度、后对线宽微调,先确定与信号层与平面层之间的介质层厚度,再确定信号层之间的介质层厚度,最后确定平面层之间的介质层厚度
4、不带入阻焊厚度计算。
- 阻抗:在具有电阻、电感和电容的电路里,对交流电所起的阻碍作用叫做阻抗。
- 隨著電子業的飛速發展,個人電腦體積越做越小,電腦的速度要求越來快形式下,印刷電路板上導體的特性阻抗的控制就越來越被重視。因為電腦速度越快,就須要求電信號傳送的速率要快,也即須減少電信號在傳送中反射及能量的損失,而要達到此目的,其特性阻抗就必須和電源及負載的阻抗相配合,以獲得固定的特性阻抗。
- 阻抗计算公式:

- PCB制作时阻抗控制的
- 介电常数
- 介质层厚度
- 布线与结构、线宽与线距
- 铜箔厚度
- 1、H=信号层与参考层间介质厚度;
- 2、W=走线宽度;
- 3、εr=材料的介电常数;
- 4、T=走线厚度。
阻抗设计时注意点:
- W(设计线宽)该因素一般情况下是由客户决定的。但在设计时请充分考虑线宽对该阻抗值的配合性,即为达到该阻抗值在一定的H、Er和使用频率等条件下线宽的使用是有一定的限制的。
- S(间距):阻抗线之间的间距主要由客户决定,在工程制作时应充分考虑到补偿与生产加工的控制。
- T(铜厚):设计时应考虑到电镀加厚对铜厚的影响,指成品铜厚。
- 阻抗设计时注意点:
- W(设计线宽)该因素一般情况下是由客户决定的。但在设计时请充分考虑线宽对该阻抗值的配合性,即为达到该阻抗值在一定的H、Er和使用频率等条件下线宽的使用是有一定的限制的。
- S(间距):阻抗线之间的间距主要由客户决定,在工程制作时应充分考虑到补偿与生产加工的控制。
- T(铜厚):设计时应考虑到电镀加厚对铜厚的影响,指成品铜厚。
- H(介质厚度)设计时应考虑层压结构的对称性与芯板的库存;此参数对阻抗值的影响最大,设计时对该因素应予以充分的考虑。
- 参考层的判断
- 阻抗模式的判断
- 当然阻抗控制不仅仅是上述几因素,上面所提的只是比较而言影响度较大的几因素,也是从PCB的制造厂商的角度来看待该问题的。
阻抗控制产品的过程控制:
- 过程制作中的注意事项:
介电常数:它是指在同一电容中用同一物质为电介质和真空时的电容的比值,表示电介质在电场中贮存静电能的相对能力。介电常数愈小绝缘性愈好 。 - 不同的组合介质、厚度介电常数:芯板厚度(mm)配料结构介电常数
- 对介电常数的取值,要关键看其介质的厚度来对应查找其对应的介电常数,可以按最接近的原则进行选择;如果计算的介质厚度位于列表中的两个介质厚度中间,则介电常数取列表相应两个介电常数的平均值;如果顾客提供板材,则按顾客提供板材的介电常数取值。
1、确定好阻抗线的模式
2、先外层后内层
3、先根据线宽确定介质层厚度、后对线宽微调,先确定与信号层与平面层之间的介质层厚度,再确定信号层之间的介质层厚度,最后确定平面层之间的介质层厚度
4、不带入阻焊厚度计算。
- 阻抗测试条的制作:
- 阻抗测试条是对客户板内设计的模拟,含线宽、间距、参考层必须严格参考板内的。
- 钻孔直径:0.8-1.0MM ,焊环6mil以上 。
- 用于阻抗测试的连线也要同板内线条一同补偿
- 对于隔层参考的阻抗线,在与参考层之间的对应位置不能有铜(包括阻抗线、铜皮),非参考层上的铜距离阻抗线要至少1MM以上,为此,内层不能铺死铜 。
- 不同的阻抗线不能交叉,信号盘不能共用。接地盘可以共用。
- 每一种阻抗线所对应的参考层必须有一块接地的铜块(铜块必须包含阻抗线) 。
- 共面阻抗线的相应层,阻抗线周围要铺铜皮,且铜皮要与参考层连接。
- 生产指示(MI)的编制:
- 1、MI中在字符后排阻抗测试流程 ,层压处注明“叠层不可更改”,提供《特性阻抗制造说明书》;
- 2、阻抗控制的板(无需制作测试板),板内阻抗线要按建议值更改,提供《特性阻抗制造说明书》和阻抗线的图片,在MI中蚀刻后(含内层或外层)注明“测量阻抗线线宽” ,层压处注明“叠层不可更改”。
- 3、NOPE或NOPE更改线路及层压结构时要注意检查有无阻抗要求,能否更改 。
- TDR法是一种被广泛使用的特性阻抗测试方法。
- TDR法是使用阶梯信号发生器与示波器向线路板内输入阶梯性电压,根据在示波器上显示的波形来测定各种参数的方法。
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